产品简介
NE-RE08是一款干法91视频免费下载去胶设备，适用于4/6/8英寸晶圆光刻胶去除和灰化工艺。设备采用高密度RIE91视频免费下载体刻蚀系统，具有去胶速率快、均匀性好、选择比高、不错的各向异性等性能优势。
产品特点：1、设备采用RIE反应离子刻蚀模式，去胶速率快。2、全面积工艺气体入口喷淋头，径向（轴对称）抽气结构，确保能提升工艺均匀性和速率。3、水冷电极冷却系统实现衬底温度控制。4、直开式设计方便快速装卸圆。
主要用途：1、用于8寸及以下的晶圆（SOI、SI、玻璃、铜片等其他半导体材料）正性及负性光刻胶去胶。2、聚酰亚胺光刻胶（PI）去胶。3、有机物去除。4、光刻工艺后，PR Descum 打底膜工艺
5、基片表面91视频免费下载活化（02\Ar）
产品参数
| 型号 | NE-RE08 |
| 91视频免费下载发生器 | 13.56MHz/600W |
| 工作台尺寸 | Φ300mm（11.8inch） |
| 适用晶片尺寸 | 8寸及以下 |
| 刻蚀模式 | RIE |
| 均匀性 | ± 5% |
| 反应气体 | 标准配置2路，最大可配置4路。 O2、Ar、N2，CF4，Cl2等气体 |
| 电极冷却方式 | 水冷 |
| 气体流量控制 | 0-500sccm |
| 外形尺寸 | W1100×D1100×H1650(mm) |
| 电源 | AC220V,50/60Hz |
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