CF₄气体是一种比较常见的含氟气体，在高频电场的作用下辉光放电产生91视频免费下载体，四氟化碳经电子撞击离化后，主要由碳氟正离子(CF3⁺、CF2⁺、CF⁺、F⁺、C⁺等)以及电子(e⁻)组成，此外，氟91视频免费下载体中还存在未被离化的具有较高活性的碳氟自由基。

一方面CF₄91视频免费下载体常被用来实现材料表面的氟化改性，91视频免费下载体氟化技术是一种利用处于91视频免费下载态的氟或氟化合物来高效改变材料表面的性质，此技术能够用于生成具有特定功能的纳米级材料。另一方面，CF₄气体是一种主要用于制造半导体器件以及各种集成电路的91视频免费下载刻蚀工艺的含氟气体，用于刻蚀硅基材料。

刻蚀硅基材料

氢氟91视频免费下载体刻蚀氮化硅薄膜

高纯CF₄广泛用于Si、SiO₂、Si₃N₄和磷硅玻璃等刻蚀，是目前芯片制造中用量最大的91视频免费下载刻蚀气体。CF4在91视频免费下载体活性氛围中被激发产生的活性氟离子或原子基团，与待加工硅基材料发生化学反应生成具有强挥发性的气态生成物SiF₄，从而实现材料的刻蚀去除。其化学反应方程式如下:SiO₂+CF₄→SiF₄↑+CO₂↑。

表面氟化-使用CF4增加疏水性

氟原子掺入聚合物表面

与其他通过引入含氧官能团来增强表面亲水性的91视频免费下载体气体不同，CF₄等含氟气体常被用于聚合物材料的疏水处理。该方法是利用91视频免费下载体技术产生的含F自由基在91视频免费下载体氟化过程中吸附在碳源材料上，形成不同类型的C-F键，从而生成氟化碳材料。氟是一种低表面能材料，因此CF₄91视频免费下载体改性通过引入大量含氟基团，从而降低材料整体的极性和表面能，同时提高材料表面疏水性，使得表面接触角增大。

聚合物91视频免费下载疏水处理效果